Chemische Prozesse zur Herstellung von Mono- und Multikristallinen Solarzellen

 PV Reinigung

ENLIGHT™ WAFER CLEAN 320

Ultrasonic cleaning solutions for mono- and multi-crystalline wafers / Ultraschall Reinigungslösung für Mono- und Multi- kristalline Wafer.

 Tinte für Inkjets

ENLIGHT™ JET RESIST 1310

Hot melt ink that is compatible with most PZT drop on demand inkjet systems / Flüssig Resist zur Verwendung in Heiß-Tintenstrahldruckern.

ENLIGHT™ JETSTRIP 1210

Inkjet resist stripping solution for removing ENLIGHT™ JETRESIST 1310 / Inkjet Resist Stripper Lösung für ENLIGHT™ JETRESIST 1310

 PV Metallisierung

ENLIGHT™ 1300 ELECTROLYTIC NICKEL PLATING

Electrolytic nickel plating process for photovoltaic (solar cell) applications / Galvanische Nickel Beschichtung zur Herstellung von Solarzellen

ENLIGHT™ 420 ELECTROLYTIC COPPER PLATING

Electrolytic copper plating process for photovoltaic (solar cell) applications / Galvanische Kupfer Beschichtung zur Herstellung von Solarzellen

ENLIGHT™ 500 ELECTROLYTIC TIN PLATING

Electrolytic tin plating process for photovoltaic (solar cell) applications / Galvanische Zinn Beschichtung zur Herstellung von Solarzellen

ENLIGHT™ 720 ELECTROLESS NICKEL PLATING

Electroless nickel plating process for photovoltaic (solar cell) applications / Chemischer Nickel Beschichtung zur Herstellung von Solarzellen

ENLIGHT™ 900 ELECTROLESS COPPER PLATING

Electroless copper plating process for photovoltaic (solar cell) applications / Chemischer Kupfer Beschichtung zur Herstellung von Solarzellen

ENLIGHT™ SILVER PLATE 620

A cyanide-free Light Induced Plating (LIP) solution for improved efficiency performance in cell fabrication / Zyanid freier LIP Prozess

 PV Texturierung

ENLIGHT™ 101/201 TEXTURIZERS

Caustic/acid texturization process for photovoltaic (solar cell) applications / Texturprozess zur Herstellung von Mono- und Multi- kristallinen Solarzellen.

Christian Stepan

Nikola Vujanovic

Verkauf

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