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Schmid Photovoltaik

  Gebr. Schmid GmbH + Co.
  Robert-Bosch-Str. 32-34
  D-72250 Freudenstadt

  http://www.schmid-group.com/

  Wir sind in diesen Ländern Ihr Partner für Produkte von Schmid: AT, HU, RO, BG, CR, SI, HR, SR, BH, MK, GR, CZ, SK

 

In jeder Zelle Perfektion

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SCHMID ist technologischer Marktführer in der auf siliziumbasierenden Solarzellenfertigung. Über 90 % der gesamten Wertschöpfungskette wird mit eigenem Prozess-Equipment abgedeckt. Zahlreiche neue Zellkonzepte wurden durch eigene Forschung zur Produktionsreife gebracht.

 

 Acid Texturing

Acid Texturing

Inline-System zur Entfernung von Sägeschäden und zur Oberflächenvergrößerung des Wafers

- Schonendes Handling der Wafer ohne Transportschäden

- Transportsystem ausgelegt für die Handhabung verschiedener Wafergrößen in einer Linie

- Reduzierte Chemieverschleppung

- Kürzerer und stabilerer Prozess gewährleitstet hohe Reproduzierbarkeit

- Prozesskontrolle durch automatische Dosierung und Badüberwachung

- Kontinuierliche Umwälzung der Chemie

- Rückstandsfreie Trocknung durch Dry Jet Trockner

- Geringerer Chemieverbrauch von 30% bis 40% bei einseitiger Texturierung

- Erweiterungsfähige Prozesslinie

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 Alkaline Texturing

Alkaline Texturing

Inline-System zur Entfernung von Sägerückständen und Oberflächenvergrößerung des Wafers

- Schonendes Handling der Wafer ohne Transportschäden

- Transportsystem ausgelegt für die Handhabung verschiedener Wafergrößen in einer Linie

- Geringe Chemieverschleppung

- Kürzerer und stabilerer Prozess gewährleitstet hohe Reproduzierbarkeit

- Prozesskontrolle durch automatische Dosierung und Badüberwachung

- Kontinuierliche Umwälzung der Chemie

- Rückstandsfreie Trocknung durch Dry Jet Trockner

- Erweiterungsfähige Prozesslinie

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 Buffer & Flex-Buffer

Buffer & Flex-Buffer

Buffer & Flex-Buffer

- Variable Geschwindigkeitssteuerung

- Schonender Wafer-/Zelltransport

- Durchgängige Wafer- bzw. Zellverfolgung

- Variable Kapazitäten

- Geringer Wartungsaufwand

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 Carrier Loader & Carrier Unloader

Carrier Loader & Carrier Unloader

Module zur Be- und Entladung von Prozessanlagen

- Höchster Durchsatz auf kleiner Fläche

- Vibrationsfreier und sanfter Wafer-/Zelltransport

- Passend für verschiedene Wafer-/Zellgrößen

- Geringe Bruchrate < 0,1 %

- Geeignet für sehr dünne Wafer/Zellen ab 120 µm

- Einfache Integration in Montrac System

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 Cell-Sorter

Cell-Sorter

Inline-Modul zum Vermessen und Sortieren von Solarzellen

- Flexibel für unterschiedliche Zelltypen und Formate

- Geeignet für sehr dünne Wafer

- Erweiterung der Klassen möglich

- Frei programmierbare Sonnensimulation

- Frei wählbare Parameter für die Klasseneinteilung

- Schonendes Zellhandling mittels Bernoulligreifern

- Kompakter Aufbau

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 Conveyor & Cross-Conveyor

Conveyor & Cross-Conveyor

Inline-Modul für den Transport von Wafern/Zellen

- Variable Geschwindigkeitssteuerung der Bänder (beschleunigen/abbremsen)

- Keine mechanische Beanspruchung der Wafer/Zellen

- Synchronisation

- Optionale Bruchkontrolle und -ausschleusung

- Wafer-/Zellverfolgung und Prozessüberwachung

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 Diffusion Furnace

Diffusion Furnace

Inline-System zur Emitter-Erzeugung

- Metallfreier Diffusionsbereich

- Homogene Temperaturverteilung über spezielle Lampensteuerung

- Keine Wasserkühlung erforderlich

- Sehr kurzer Kühlbereich, nur Waferkühlung erforderlich

- Digitale Überwachung der Zu- und Abluft

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 Electroplating

Electroplating

Inline-System zur Metallisierung von IBC Solarzellen (Rückseitenkontaktzellen)

- Verwendbar zur Abscheidung verschiedener Metalle

- Höhere Zelleffizienz durch höhere Leitfähigkeit

- Stabile und gleichmäßige lokale Spannungsverteilung innerhalb der Solarzelle

- Hohe Ausbeute durch schonenden Transport im Warenträger

- Hohe Produktivität durch hohe Abscheideraten

- Hohe Prozessstabilität garantiert hohe Reproduzierbarkeit

- Prozesskontrolle durch umfangreiche Prozessüberwachung und Visualisierung

- Stabile Prozesse durch kontinuierlichen Austausch der Prozessflüssigkeit

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 Firing

Firing

Inline-System für die Front- und Rückseitenkontaktierung von Solarzellen

- Max. Aufheizraten von 80°C/sec.

- Max. Abkühlraten von 70°C/sec.

- Flächige und vorbeheizte Zuluft

- Seitenlampen in der Feuerzone sorgen für homogene Temperaturverteilung

- Energiereduzierung durch leichteres Vorschubtransportband

- Quarzauflage des Transportbandes im Ofeninneren zur Reduzierung von Abschattungen

- Automatische Bandvorspannung

- Digitale Überwachung der Zu- und Abluft

- Wasser- und Luftkühlung mit Wärmetauscher

- Optional: After burner

- Optional: Stand-Offs

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 Inkjet DOD 300

Inkjet DOD 300

Digitales Drucken auf Solarzellen

- Durchsatz von 100 Wafern pro Stunde (manuelle Beladung)

- Hohe Ausbeute durch berührungsloses Drucken

- Hohe Gesamtgenauigkeit des Druckbildes von ± 7 Mikrometern

- Für sehr dünne Wafer geeignet

- Geignet für Entwicklung von Ätzmasken, Nano-Metallisierung und Dotiertinten

- Große Vielzahl an Druckköpfen verfügbar

- Optionale Automatisierung verfügbar

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 Laser Transfer Printing

Laser Transfer Printing

Berührungsloses System zur Metallisierung von Solarzellen

- Durchsatz von 1.650 Wafern pro Stunde

- Hoher Ertrag durch berührungsloses Drucken

- Vollständig digitales Drucken beliebiger Muster

- Problemloses Drucken feinster Strukturen (min. 80 μm @ 600 dpi)

- Verwendung von Standard-Metallpasten

- Rückseitenmetallisierung Nass-in-Nass erspart das Zwischentrocknen

- Geeignet für dünne Wafer (min.110µm)

- Niedrige Betriebskosten

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 Laser Treatment

Laser Treatment

Inline-Modul zur laserbasierten Kantenisolierung oder zur Oberflächenstrukturierung

- Hoher Durchsatz

- Extrem niedrige Bruchraten

- Sehr lange Wartungsintervalle

- Erhöhung der Zelleffizienz durch bessere elektrische Isolierung

- Durchgehende Prozesskontrolle durch permanente Visualisierung der Prozessparameter

- Exakte Positionserfassung des Waferrandes jeder Zelle durch Kamerasystem

- Flexible Produktionsoptionen für verschiedene Zellgrößen

- Keine Vorausrichtung der Wafer auf Zuführungsband nötig

- Interne Automation per Pick-and-Place Roboter

- Genaue Ausrichtung und Lage (incl. Mehrspursynchronisation) der Wafer auf Ausschleusungslinie

- Bis zu fünf Zuführungs- und Ausschleusungslinien

- Unterschiedliche Anzahl von Zuführungs- und Ausschleusungslinien möglich: Automatische, interne Umsortierung

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 LIP Light Induced Plating

LIP Light Induced Plating

Inline-Modul zur Metallisierung von Solarzellen auf der Emitter-Seite

- Verwendbar zur Abscheidung verschiedener Metalle

- Höhere Zelleffizienz durch höhere Leitfähigkeit

- Geringere Verschattung durch dünnere Kontaktbahnen

- Stabile und gleichmäßige lokale Spannungsverteilung innerhalb der Solarzelle

- Hohe Ausbeute durch berührungslose Metallisierung und schonenden Transport

- Hohe Prozessstabilität garantiert hohe Reproduzierbarkeit

- Prozesskontrolle durch umfangreiche Prozessüberwachung und Visualisierung

- Stabile Prozesse durch kontinuierlichen Austausch der Prozessflüssigkeit

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 Load Cell Line

Load Cell Line

Inline-Modul zum Einspeisen von Wafern in eine Zellproduktion

- Waferbruchkontrolle vor Prozessbeginn

- Bruchausschleusung vor und nach den Mess-Systemen

- Integration verschiedener optionaler Mess-Systeme

- Wafer- und Chargenverfolgung

- Schonender Transport und Handling

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 Multi Lane Loader & Multi Lane Unloader

Multi Lane Loader & Multi Lane Unloader

Module zur Be- und Entladung von Prozessanlagen

- Kontinuierliche und sichere Be- bzw. Entladung

- Automatische Vereinzelung

- Einfache Bedienung und Be- und Entladung der Maschine

- Geringe Bruchrate < 0,3%

- Wartungsarmer mechanischer Aufbau

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 PECVD Coating

PECVD Coating

PECVD System zur Siliziumnitrid-Antireflexionsbeschichtung

- Exzellente Oberflächenpassivierung durch Hochtemperaturprozess und Direktplasma

- Extrem gute Schichtverteilungen

- Stabiler und reproduzierbarer Prozess

- Schonendes Waferhandling mit Bernoulli-Greifersystem

- Kompaktes Maschinendesign mit geringer Stellfläche

- Durchsatz bis zu 1.147 Wafer pro Stunde

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 PECVD Loader & Unloader

PECVD Loader & Unloader

Inline-Modul zur Be- und Entladung einer PECVD-Anlage

- Be- und Entladung in einer Maschine und einem Arbeitsgang

- Schonendes Waferhandling

- Geringe Bruchrate < 0,3%

- Geringer Wartungsaufwand

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 Phosphor Doper

Phosphor Doper

Inline-Modul zur Erzeugung der Emitterschicht auf der Solarzellenoberfläche

- Keine zusätzliche Handhabung der Zellen erforderlich

- Mikrofeine, hoch homogene Phosphorsäurebeschichtung

- Gleichmäßige Nebelverteilung über die gesamte Spurbreite

- Hohe Prozesssicherheit durch kontrollierte Nebelgenerierung

- Formatunabhängige, sehr niedrige Rüstzeit

- Umweltverträglichkeit durch ausschließliche Verwendung von Phosphorsäure (kein Chlorid)

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 Pick & Place Robot

Pick & Place Robot

Pick & Place Robot

- Sehr schnelle Taktzeiten von bis zu 3600 Wafern/Zellen pro Stunde

- Schonendes Handling der Wafer/Zellen

- Hohe Flexibilität des Systems

- Lagerkapazitäten von bis zu 800 Wafern/Zellen (160 µm)

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 POCL3 Diffusion Furnace

POCL3 Diffusion Furnace

Batch System zur Erzeugung des p-n Übergangs auf texturierten Wafern

- Hohe Diffusionsgleichmäßigkeit

- Klasse 10 kompatible polierte Edelstahlabsaugung

- Durchflusskontrolliertes Gassystem für jede einzelne Prozessröhre

- Digitale Prozess- und Temperaturkontrolle für jede einzelne Prozessröhre

- „Back to Back" Installation möglich

- Als vollautomatisches System verfügbar

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 SE Jet

SE Jet

Digitales Drucken von Ätzmasken auf Solarzellen

- Durchsatz von 2.200 Wafern pro Stunde

- Sehr niedrige Tintenkosten

- Hohe Ausbeute durch berührungsloses Drucken

- Hohe Gesamtgenauigkeit des Druckbildes von ± 7 Mikrometern

- Für sehr dünne Wafer geeignet

- Edelstahl-Druckköpfe für zuverlässige Produktion für unterschiedlichste Anwendungen

- Verfügbar als Einzelgerät oder für Inline-Prozesse

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 Selective Emiter Technology

Selective Emiter Technology

Inline-System zur Erzeugung selektiver Emitter mit Hilfe von Inkjet-Technologien

- Gesteigerter Zellwirkungsgrad um bis zu 0,8 %

- Einfache Inline-Verknüpfung des Inkjet-Druckers DoD ProSeries mit nachgeschalteten Nassprozessen wie Kantenisolierung und Phosphorglasätzen

- Berührungsloses Drucken kleinster Design-Charakteristiken bei hoher Positionsgenauigkeit

- Exzellente Prozessstabilität bei einem Durchsatz von 2.200 Wafern/h

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 Single Side Edge Isolation & PSG Etching

Single Side Edge Isolation & PSG Etching

Inline-System zur nasschemischen Kantenisolation mit gleichzeitigem Entfernen der Phosphorglas-Schicht

- Vorder- und Rückseiten-Potentialtrennung durch einseitige, nasschemisches Kantenisolationsätzen

- Bis zu 80 % geringerer Chemieverbrauch gegenüber herkömmlichen Verfahren

- Gleichmäßige Rückseitenätzung durch Drehen der Wafer in einer Drehstation (Neuentwicklung)

- Stabile und reproduzierbare Prozesswerte durch automatische, kontrollierte Nachdosierung

- Geringe Chemikalienverschleppung

- Minimierte Bruchrate durch schonenden Rollentransport mit geringer Kontaktauflage

- Kontinuierliche Umwälzung der Chemie

- Rückstandsfreie Trocknung durch Dry Jet Trockner

- Erweiterungsfähige Prozesslinie

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  Ihre Ansprechpartner für Schmid Produkte (Photovoltaik):

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Ansprechpartner Schmid PV - Verkauf

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Johann Rauscher

Stefan Jagersberger

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Nassbearbeitung

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Automation

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