Entwickeln

Dank einer optimierten Badführung und einer Entschäumvorrichtung kann auf zusätzliche Antischaum-Chemie verzichtet werden. Darüber hinaus gewährleistet die kontrollierte Nachdosierung der Entwicklerlösung eine zuverlässige Entfernung des Resists.

• Entwicklerbad ohne zusätzliche Antischaum-Chemie dank einer optimierten Badführung
• Kontrollierte Nachdosierung der Entwicklerlösung im Nachentwickler gewährleistet optimierten Entwicklungsprozess und zuverlässige Entfernung des Resists

Informationsmaterial per E-Mail anfordern