Plasma Asher


  • Hohe Gleichmäßigkeit der Behandlung
  • In der Lage sein, 6 oder 8 Zoll Wafer zu leiten.
  • Bis zu 25 ~ 50 Wafer pro Charge
  • Zykluszeit ca. 20 ~ 25 min.

Featuring Designs

  • Hochdichtes Plasmasystem (ICP)
  • Beschädigungsfreies Design
  • Elektroden mit Wasserkühlung

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